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          江門(mén)不銹鋼除蠟水:鋁合金微弧氧化的原理

          作者:  來(lái)源:   更新時(shí)間:2022-04-11  閱讀數:2

            微弧氧化又叫等離子體微弧氧化,是在陽(yáng)極氧化的基礎上發(fā)展起來(lái)的,在金屬表面原位生長(cháng)陶瓷層的一種表面處理技術(shù)。微弧氧化的生成陶瓷膜層的過(guò)程一般為:將Al、Mg、Ti及Zr等輕金屬或其合金置于電解質(zhì)溶液中,當施加在電極兩端的電壓達到臨界值時(shí),工作電極表面會(huì )出現電暈、輝光、火花放電及弧放電等現象,這種微區放電現象在工作電極表面不同的位置不斷間歇重復出現,表金屬面生成的氧化膜被擊穿,瞬間溫度可達2000℃,氧化膜在高溫高壓作用下熔融,等離子弧消失以后,熔融物急速冷卻形成陶瓷層。

          江門(mén)不銹鋼除蠟水

                 微弧氧化膜層的生長(cháng)是一個(gè)“成膜—擊穿—熔化—燒結—再成膜”的多次循環(huán)過(guò)程。微弧氧化裝置的基本構。 鎂合金微弧氧化形成的膜層主要分為過(guò)渡層、致密層、疏松層。疏松層是由很硬的、孔隙較大的物質(zhì)組成,表面疏松且粗糙,易打磨掉。致密層是微弧氧化層的主體,約占氧化層總厚度的60% ~70%,該層致密、孔隙小,每個(gè)孔隙的直徑約為幾微米,孔隙率在5%以下,主要是鎂的氧化物,硬度高且磨損。過(guò)渡層為界面層,是微弧氧化膜層與基體的交界處。過(guò)渡層凹凸不平,與基體相互滲透,使微弧氧化膜層與基體結合牢固,屬典型的冶金結合。 當微弧氧化基體材料選定時(shí),微弧氧化膜層的厚度與形貌主要受到電解液體系、電源類(lèi)型、工作模式、電參數等的影響。與化學(xué)轉化、陽(yáng)極氧化技術(shù)相比,鎂合金微弧氧化制備的膜層厚度可控,耐蝕性和磨損性也更優(yōu)異,該方法已被證明是提高鎂合金的耐蝕和磨損性能的有作用的途徑,但微弧氧化膜層表面的微孔隙是限制耐蝕性提高的主要因素,需采用有作用的的封孔技術(shù)才能大幅度提高鎂合金的耐蝕性能。

                 文章源自:江門(mén)不銹鋼除蠟水  http://www.kaleycakes.com/

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